Rozdiel medzi anódovou oxidáciou a chemickou oxidáciou hliníkových profilov
Metóda oxidácie hliníkového profilu má anódovú oxidáciu a režim chemickej oxidácie, ale metóda chemickej oxidácie oxidačného filmu je relatívne tenká, takže sa veľmi bežne nepoužíva.
Rozdiely sú nasledovné:
Anódová oxidácia je umiestnenie priemyselných hliníkových profilov do acidobázického roztoku, dva konce hliníka cez vysokonapäťový jednosmerný prúd, takže dochádza k elektrolytickej reakcii a povrch hliníkového profilu tvorí hustú priehľadnú vrstvu oxidu.
Chemická oxidácia nevyžaduje napájanie, iba hliníkový profil je namočený v chemických lektvaroch, takže hliník na povrchu hliníkového profilu oxidačnou reakciou vytvorí oxidový film.
1. Anódová oxidácia je elektrochemická reakcia a chemická oxidácia patrí k čistej chemickej reakcii.
2. Eloxovaný film je hrubý, môže dosiahnuť 10-15μ , chemický oxidačný film je tenší, len {{0}},3 až 0,5μ .
3. Priemyselný hliníkový profil po oxidácii anódy nie je vodivý, zatiaľ čo hliníkový profil po chemickej oxidácii má dobrú vodivosť. Pretože eloxovaná fólia z hliníkového profilu je hrubá, oxid hlinitý je izolovaný, takže hliníkový profil zabalený v hliníkovej fólii je tiež izolovaný.
Chemický oxidačný film je veľmi tenký, neovplyvní vodivosť hliníkových profilov, takže chemická oxidácia sa tiež nazýva vodivá oxidácia. Výrobky z hliníkových profilov s požiadavkami na vodivosť budú vo všeobecnosti používať metódu chemickej oxidácie.
4. Zlepší sa aj oxidácia anód po tvrdosti a odolnosti priemyselných hliníkových profilov proti opotrebovaniu, chemická oxidácia sa nezmení.
5.Anódové hliníkové profily odolné voči nečistotám, ľahko sa čistia. Hliník, ktorý vedie elektrický oxid hlinitý, nie je odolný voči nečistotám a ľahko zanecháva odtlačok ruky.